磁控溅射法制备柔性大尺寸ITO薄膜的研究_中国煤炭行业知识服务平台

磁控溅射法制备柔性大尺寸ITO薄膜的研究

作者

霍林智朱小宁魏立帅李浩洋王璐高阳李海涛田占元
单位

陕西煤业化工技术研究院有限责任公司
摘要

为了获得适合手机触摸屏使用的ITO薄膜，寻找制备ITO薄膜的最佳工艺条件，研究了溅射功率、基底走速、氧气流量、氩气流量等工艺条件对ITO薄膜光电性能的影响。结果表明：当溅射功率为3.6kW，基底走速为1.2m/min，氧气流量为10.35sccm，氩气流量为125sccm时，所制得的ITO薄膜方阻最接近目标方阻180Ω/□，在400～780nm可见光范围内，平均透过率达到最高值85.17%。通过采用大型卷对卷磁控溅射镀膜机制备柔性大尺寸ITO薄膜，实现了性能优良的ITO薄膜中试试验，为ITO薄膜的工业化量产提供了一条途径。
关键词

直流磁控溅射大尺寸ITO薄膜光电性能