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原子层沉积技术调控分子筛基催化剂研究进展
  • 96
  • 作者

    魏丽王树元闫梦霞朱地陶智超徐丹

  • 单位

    齐鲁工业大学（山东省科学院）能源研究所中科合成油技术股份有限公司国家能源煤基液体燃料研发中心

  • 摘要
    分子筛基催化剂在多相催化研究领域具有重要的应用，但调控活性中心粒子的结构及其在分子筛上的空间位置仍比较困难，是科研界和工业界共同面临的巨大挑战。原子层沉积(ALD)是一种先进的薄膜沉积技术，利用其自限制生长优势，可在原子级别实现对金属粒子生长过程的精准调控。本文综述了ALD技术在制备分子筛基催化剂方面的应用，主要包括利用ALD技术控制活性位点在分子筛上的生长落位、修饰分子筛骨架结构以及选择性沉积膜调变分子筛表面结构。利用ALD技术设计和调控活性组分结构促进了分子筛基催化剂的发展，但由于分子筛孔道结构复杂且存在缺陷位，因此ALD技术在分子筛基催化剂的设计调控及大规模应用方面仍具有挑战性，也是今后研究工作的重点。
  • 关键词

    分子筛原子层沉积催化剂调控选择性沉积

  • 引用格式
    魏丽,王树元,闫梦霞等.原子层沉积技术调控分子筛基催化剂研究进展[J/OL].燃料化学学报(中英文):1-8[2023-09-02].DOI:10.19906/j.cnki.JFCT.2023056.
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